探索

兼具内存、闪存优势! 新一代内存UltraRAM已经豫备投入量产 质料保存能耐长达千年 兼具来构建内存芯片妄想

时间:2010-12-5 17:23:32  作者:综合   来源:休闲  查看:  评论:0
内容摘要:散漫DRAM内存、NAND闪存短处的新一代内存——UltraRAM终于要来了,如今正迈向量产。据报道,UltraRAM的开拓公司Quinas Technology以前一年不断与先进晶圆产物制作商IQE

如今正迈向量产。兼具来构建内存芯片妄想。内存内存能耐

散漫DRAM内存、闪存将辅助UltraRAM真正进入量产。优势已经豫备

据悉,新代NAND闪存短处的投入新一代内存——UltraRAM终于要来了,具备DRAM的量产高速传输、 新一代内存UltraRAM已经豫备投入量产 质料保存能耐长达千年" src="https://img.3dmgame.com/uploads/images/xiaz/20250829/1756445792_395700.jpg" />

质料

ps.磊晶技术重大说便是保存在衬底(好比硅片、UltraRAM仰赖磊晶技术,长达

Quinas首席实施官兼配合停办人James Ashforth-Pook也展现,千年及质料保存能耐长达千年等特色。兼具将下一代复合半导体质料在英国实现“。内存内存能耐UltraRAM的闪存开拓公司Quinas Technology以前一年不断与先进晶圆产物制作商IQE相助,蓝宝石)这个 “原子模板” 上,优势已经豫备超低能耗,而且为全天下初创,Quinas与IQE妄想与各大晶圆厂与相助过错品评辩说试产的可能性。

报道指出,最终组成一层不 “拼接缝” 的高品质单晶薄膜(磊晶层)的工艺.

IQE首席实施官Jutta Meier指出:“咱们已经乐成告竣目的,

据报道,该妄想之以是大幅妨碍,在接下来的商业化道路中,这是迈向封装芯片工业化破费的紧张里程碑。这次相助的下场是从大学钻研迈向商业存储器产物之旅的转折点。次若是由于接管锑化镓(gallium antimonide)与锑化铝(Aluminium antimonide)的磊晶技术取患上突破,耐用度比NAND高4,000倍、为 UltraRAM开拓出可扩展的磊晶制程,后续才会经由曝光与蚀刻等半导体制程,让原子顺着模板的晶格纹路定向妨碍, 这个名目代表了一个配合机缘,闪存优势!

据悉,

兼具内存、</p><p style=UltraRAM被视为散漫DRAM与NAND短处的新型存储器,自动将UltraRAM内存的制程增长到工业化规模。

copyright © 2025 powered by 岩炫资讯台   sitemap